机译:KURRI的离子束溅射设备:先进中子光学设备的涂层
Research Reactor Institute, Kyoto university, Kumatori, Osaka 590-0494, Japan;
Department of Nuclear Engineering, Kyoto University, Kyoto 615-8540, Japan;
Center for Experimental Studies, KMI, Nagoya University, Nagoya 464-8602, Japan;
Neutron Science Laboratory, High Energy Accelerator Research Organization, 203-1 Shirakata, Tokai, Ibaraki 319-1106, Japan;
Department of Nuclear Engineering, Kyoto University, Kyoto 615-8540, Japan;
Research Reactor Institute, Kyoto university, Kumatori, Osaka 590-0494, Japan;
机译:使用KURRI的离子束溅射仪研制的大m极化中子超镜
机译:通过离子束溅射,舟皿和电子束蒸发沉积的MgF2和LaF3涂层的紫外光学和微观结构性质
机译:磁控溅射法从具有孔隙率的多孔硅涂层制备光学多层器件
机译:中子波导:一种用于生产潜亚尺度计中子束的新中子光学装置
机译:用于高能激光器的离子束溅射沉积干涉涂层的抗光学损伤性能的进步。
机译:通过离子束溅射在Si上形成超薄金薄膜涂层形成硅纳米点
机译:KURRI的离子束溅射设备:先进中子光学设备的涂层