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摘要

次世代の露光技術であるダブル?パターニング用のArF液rn浸露光装置を巡って,オランダASML社とニコンのつばぜりrn合いが激しさを増してきた。最近では,ニコン取締役兼専務rn執行役員精機カンパニープレジデントの牛田一雄氏が11月6rn日の決算発表において,「2009年後半には,(ASMLにとってrn有利となる)ユーロ安の状況でも,コストパフォーマンスでrn競合を圧倒的に上回るダブル?パターニング用のArF液浸露rn光装置を投入する。
机译:关于下一代曝光技术的用于双图案的ArF液浸式曝光系统,荷兰的ASML与尼康之间的Tsubez rn关系变得更加紧密。日前,尼康精密机械公司总裁兼高级执行总裁内田一雄(Kazuo Ushida)总裁在11月6日的财务业绩声明中表示:“即使在欧元疲软的情况下,2009年下半年(这对ASML来说是不利的)推出用于双重图案的ArF液浸式光学器件,这使竞争不堪重负。

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    《日経マイクロデバイス》 |2009年第283期|108-109|共2页
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