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机译:负色调显影在高级光刻中的潜在应用
Numonyx Italy s.r.L, Via C Olivetti 2,20041 Agrate Brianza (Ml), Italy;
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trenches; contacts; negative tone development; ntd;
机译:用于高级光刻的负色调显影的功能抗蚀剂材料
机译:用于高级光刻的负色调显影的功能抗蚀剂材料
机译:通过使用负性显影光刻和蚀刻光刻图案,实现具有自对准的56 nm节距的铜双大马士革互连
机译:基于负色调显影(NTD)工艺的高级图案化方法可进一步扩展193 nm浸没式光刻
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:纤维素的光刻图案:适用于高级应用的多功能双色调光刻胶
机译:先进光刻中负面调的功能性抗蚀材料
机译:剑与犁头:冲击波应用于高级光刻