机译:使用间隔符定义的双重图案(SDDP)启用互连缩放
IMEC vzw, Kapeldreef 75, B-3000 Leuven, Belgium;
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Spacer-Defined Double Patterning (SDDP); Line Edge Roughness (LER); Line Edge Roughness (LER) correlation; Time-Dependent Dielectric Breakdown; (TDDB);
机译:通过间隔物定义的双图案化工艺,具有高纵横比的超高密度亚10纳米TiO2纳米片阵列
机译:间隔物定义的双图案中的晶圆级临界尺寸控制,用于低于72 nm的间距逻辑技术
机译:双图案光刻中互连的统计成品率优化框架
机译:间隔器定义的双图案(SDDP)在20nm半间距处具有线边缘粗糙度(LER)相关性和介电可靠性
机译:帽子图案和双峰:宽音,迟音,窄音和双音准音调的语音和心理语言学。
机译:粗略和精细的分布格局和生境选择使亚马逊河洪泛区的平原陷入双重危险
机译:光刻定义的3-D芯片刻度光学互连,实现超小型占地面积垂直波导耦合器
机译:大型天线场中满量程HF菱形和其他天线的辐射测量模式。附录B.对数周期,双峰和全向天线模式。