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机译:射频磁控溅射沉积在玻璃和Si(100)衬底上的Cr-Si-Ni薄膜的微观结构和电特性
Key Laboratory of Education Ministry for High Temperature Materials and Tests, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200030, China;
resistive films; substrates; microstructure; electrical resistivity; surface roughness;
机译:使用不同溅射压力在柔性基板上沉积的抗碲化酰胺薄膜的微观结构和电性能
机译:环境对磁控溅射沉积Cr-Si-Ni电阻膜电性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积在Si(100)衬底上的SrBi_2Ta_5O_9薄膜的电性能
机译:直流和射频磁控溅射沉积在Al2O3衬底上的Ni-Cr-Si薄膜电阻的微观结构和电学特性
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:磁控溅射沉积非晶碳膜的基体温度相关的微观结构和电子诱导的二次电子发射特性
机译:射频磁控溅射沉积在玻璃基板上的ZnO:Al薄膜的形貌和电演化