机译:利用交流磁化率估算非线性有效通量扩散势垒U(J,H_d,T)和多晶(Bi-Pb)-2223的临界电流密度
Department of Physics, Cryogenic Engineering Centre High Temperature Superconductivity Laboratory, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, India;
A. superconductors; D. superconductivity; D. magnetic properties; D. electrical properties;
机译:多晶(Bi-Pb)-2223高温超导体的晶间临界电流密度通过磁化率测量
机译:多晶(Bi-Pb)-2223高温超导体的晶间临界电流密度通过磁化率测量
机译:基于交流磁化率测量的基于HGBA2CA2CU3OX的磁通量扩散临界电流密度和临界电流密度
机译:具有绝缘SR-V-O屏障的Ag-Seathed Bi-2223带的相位和临界电流密度
机译:推进材料加工,消除限流机制并提高银鞘Bi-2223复合导体的临界电流密度。
机译:Bi2212圆形和Bi2223圆形扁线的生长织构比较及其与高临界电流密度发展的关系
机译:坎贝尔法在多晶MgB2中获得的交流磁通量分布和临界电流密度
机译:固态扩散过程中Nb3sn带的交流损耗和直流临界电流密度