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Deposition of transparent conductive mesoporous indium tin oxide thin films by a dip coating process

机译:通过浸涂工艺沉积透明导电中孔铟锡氧化物薄膜

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摘要

Cetyltrimethyl ammonium bromide (CTAB) templated mesoporous indium tin oxide (ITO) thin films were deposited on quartz plates by an evaporation-induced self-assembly (EISA) process using a dip coating method. The starting solution was prepared by mixing i
机译:十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)模板化的中孔氧化铟锡(ITO)薄膜通过浸涂法通过蒸发诱导自组装(EISA)工艺沉积在石英板上。起始溶液通过混合

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