机译:反应射频磁控溅射沉积锶钽基钙钛矿型氮氧化物薄膜的铁电和介电研究
Univ Rennes 1, IETR, Equipe Mat Fonct, IUT St Brieuc, F-22000 St Brieuc, France;
Univ Rennes 1, IETR, Equipe Mat Fonct, IUT St Brieuc, F-22000 St Brieuc, France;
Univ Lille, UCCS, Univ Artois, CNRS,Cent Lille,ENSCL, F-62300 Lens, France;
Univ Lille 1, UDSMM, Univ Littoral Cote Opale, F-62100 Calais, France;
Univ Bretagne Occidentale, Lab Sci & Tech Informat Commun & Connaissance LAB, Pole Microondes & Mat, F-29000 Brest, France;
Univ Rennes 1, IETR, Equipe Mat Fonct, IUT St Brieuc, F-22000 St Brieuc, France;
Univ Rennes 1, IETR, Equipe Mat Fonct, IUT St Brieuc, F-22000 St Brieuc, France;
Univ Rennes 1, ISCR, Equipe Verres & Ceram, F-35000 Rennes, France;
Univ Rennes 1, ISCR, Equipe Verres & Ceram, F-35000 Rennes, France;
Univ Lille, UCCS, Univ Artois, CNRS,Cent Lille,ENSCL, F-62300 Lens, France;
Univ Lille, UCCS, Univ Artois, CNRS,Cent Lille,ENSCL, F-62300 Lens, France;
Univ Rennes 1, IETR, Equipe Mat Fonct, IUT St Brieuc, F-22000 St Brieuc, France;
Univ Rennes 1, IETR, Equipe Mat Fonct, IUT St Brieuc, F-22000 St Brieuc, France;
Oxynitride; Perovskite; Thin films; Reactive sputtering; Epitaxy; Permittivity; Ferroelectricity;
机译:磁控溅射沉积氧氮化钽TaOxNy薄膜的多相结构
机译:反应磁控溅射沉积氧氮化钽薄膜的光学和机械性能
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