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Investigation of vacancy in C54 TiSi_2 using ab initio method

机译:从头算方法研究C54 TiSi_2中的空位

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摘要

Investigated by ab initio plane-wave ultrasoft pseudopotential method based on generalized gradient approximation (GGA), it has been found that the formation energies of the vacancies in C54 TiSi_2 largely depend on the atomic chemical potentials of Ti and Si. In Si-rich limit, the formation energies of the Si and Ti vacancy are 2.39 eV and 2.40 eV while they are 1.53 eV and 4.07 eV in Ti-rich limit, respectively. The introduction of Si or Ti vacancy only slightly changes total density of states (DOS) and it also causes no considerable charge transfer.
机译:通过基于广义梯度逼近(GGA)的从头算平面波超软伪势方法研究,发现C54 TiSi_2中空位的形成能在很大程度上取决于Ti和Si的原子化学势。在富Si极限中,Si和Ti空位的形成能分别为2.39 eV和2.40 eV,而在富Ti极限中分别为1.53 eV和4.07 eV。 Si或Ti空位的引入仅稍微改变了状态的总密度(DOS),并且也不会引起大量的电荷转移。

著录项

  • 来源
    《Materials Letters》 |2005年第9期|p.885-888|共4页
  • 作者

    T. Wang; Y.B. Dai; S. K. Ouyang;

  • 作者单位

    Research Institute of Micro/Nano Science and Technology, Shanghai Jiao Tong University, 1954 Huashan Road, Shanghai 200030, PR China;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 工程材料学;
  • 关键词

    Silicide; Ab initio; Vacancy;

    机译:硅化物;从头算起;空缺;

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