机译:TaN化学机械平面化中的化学效应:使用傅立叶变换阻抗谱研究基于过氧化物的碱性浆料中的表面反应
Center for Advanced Materials Processing, Box 5665, Clarkson University, Potsdam, NY 13699, United States;
CMP; Electronic materials; Impedance spectroscopy; Surfaces; Tantalum; Tantalum nitride;
机译:无抑制剂的碱性浆料中铜化学机械平面化的电化学研究
机译:通过化学机械平整化和化学后平整清洗原位测量研究Co表面反应
机译:用时间分辨阻抗谱研究碘酸根离子在Ta的化学机械和电化学机械平面化中的作用
机译:稀碱溶液中锌氧化的循环伏安法(SCV)-傅里叶变换电化学阻抗谱研究。
机译:用傅立叶变换阻抗谱和表面等离振子共振技术研究了在块状和薄膜金属上电化学控制的表面反应的动力学。
机译:化学机械平面化过程中浆料混合程度和可用性的浆料注入方案
机译:扫描隧道显微镜,傅里叶变换红外光谱和2-萘硫醇的电化学表征在Au表面上的2-萘硫醇:Ru(NH3)62+的桥介质电子转移的研究 - Ru(NH3)63+氧化还原反应