机译:射频磁控溅射法在金属Cr基体上沉积二氧化钛薄膜
Division of Advanced Material Science and Engineering, Kongju National University, Kongju City 182, Republic of Korea;
catalysts; TiO_2; amorphous; thin films; hydrophilicity;
机译:射频磁控溅射沉积在蓝宝石衬底上的氧化锌锡薄膜的物理性质
机译:射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜的微观结构和性能
机译:射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜的微观结构和性能
机译:Si含量对脉冲电子束处理的钛基溅射沉积的含硅钙 - 磷酸钙基膜的结构和力学特征的影响
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:在不加热衬底的情况下通过射频磁控等离子体溅射沉积的铝掺杂氧化锌薄膜的空间分辨光电性能
机译:Cu 4O3通过从氧化铜靶溅射的非反应性RF-磁控溅射沉积的薄膜
机译:温度,生长动力学和基底对RF轴外溅射沉积YBa(sub 2)Cu(sub 3)O(sub 7)薄膜微观结构的影响