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机译:热应力对多铁性薄膜磁畴图形的影响
Centre for Excellence in Nanoelectronics, Department of Electrical Engineering, Indian Instituto of Technology Bombay, Mumbai 400076, India;
rnCentre for Excellence in Nanoelectronics, Department of Electrical Engineering, Indian Instituto of Technology Bombay, Mumbai 400076, India;
rnCentre for Excellence in Nanoelectronics, Department of Electrical Engineering, Indian Instituto of Technology Bombay, Mumbai 400076, India;
atomic force microscopy; magnetic; thin film;
机译:扫描压电热显微镜研究多铁性BiFeO3薄膜中的局部压电响应和铁弹性域的热行为
机译:带铁电畴的多铁性BiFeO_3诱导的La_(0.7)Sr_(0.3)MnO_3薄膜的单轴磁各向异性
机译:热激发自旋涨落辅助介观磁性薄膜元件的非平衡畴图案形成
机译:RFIC螺旋电感器上图案化的坡莫合金薄膜中磁畴受控形成的影响
机译:使用固有和外部施加的应力控制图案化铁钴薄膜中的磁畴结构。
机译:机械力在多铁性Bi0.9La0.1FeO3薄膜中局部铁电和磁畴的转换
机译:(Ir-)磁畴图案中的可逆性和热平衡 在超薄铁磁薄膜中形成