机译:主动屏等离子体氮化处理氮化碳膜
Centra de Ciencias Exatas e Tecnologia, Universidade de Caxias do Sul, 95070-560, Caxias do Sul, RS, Brazil;
Departamento de Fisica, Pontificia Universidade Catolica, 22453-900, Rio de Janeiro, RJ, Brazil;
Centra de Ciencias Exatas e Tecnologia, Universidade de Caxias do Sul, 95070-560, Caxias do Sul, RS, Brazil;
Departamento de Fisica, Universidade Federal de Santa Catarina, 88010-970, Florianopolis, SC, Brazil;
Centra de Ciencias Exatas e Tecnologia, Universidade de Caxias do Sul, 95070-560, Caxias do Sul, RS, Brazil;
Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Crande do Sul, 91501-970, Porto Alegre, RS, Brazil;
Centra de Ciencias Exatas e Tecnologia, Universidade de Caxias do Sul, 95070-560, Caxias do Sul, RS, Brazil,Instituto de Fisica, Universidade Federal do Rio Crande do Sul, 91501-970, Porto Alegre, RS, Brazil;
Departamenw de Quimica, Universidade Federal de Santa Maria, 97105-900, Santa Maria, RS, Brazil;
polypropylene; active screen plasma nitriding; carbon nitride;
机译:经典活性屏等离子体氮化与半球形阴极笼活性屏等离子体氮化之间的氮化层差异
机译:有源屏等离子体氮化法在H11工具钢上沉积纳米氮化钛
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法沉积氮化硅和类金刚石碳膜的光学性能随沉积时间的变化
机译:在电子回旋共振射频放电中的等离子体沉积金刚石碳和碳 - 氮化物膜
机译:脉冲激光沉积氧化铜,氧化钴(II),氧化钴(III),类金刚石碳,氮化镓,氮化铝和氮化铟薄膜。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:N2:(N2 + CH4)比对低温等离子体增强化学气相沉积法制备疏水纳米结构氢化碳氮化物薄膜的研究
机译:通过高能冲击等离子体沉积产生的结晶和无定形氮化碳膜