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机译:通过离子束溅射沉积与后退火相结合制备的电致变色WO3薄膜
Changzhou Univ, Sch Math & Phys, Changzhou 213164, Peoples R China;
Jiangsu Univ Technol, Coll Elect & Commun Engn, Changzhou 213001, Peoples R China;
Changzhou Univ, Sch Math & Phys, Changzhou 213164, Peoples R China;
Changzhou Univ, Sch Math & Phys, Changzhou 213164, Peoples R China;
Changzhou Univ, Sch Math & Phys, Changzhou 213164, Peoples R China;
WO3; Thin films; Electrochromic; Oxygen deficiency phase; Ion beam technology;
机译:反应性磁控溅射的电致变色特性由霓虹溅射WO3薄膜作为溅射气体
机译:离子束电压对离子束溅射沉积制备的类金刚石碳薄膜性能的影响
机译:沉积温度对溅射WO3薄膜的电化学性能的影响
机译:电致变色窗的光学表征和电化学行为使用磁控溅射沉积氧化钨氧化物和(1-x)WO3XTIO2薄膜
机译:通过离子束溅射沉积的介电薄膜,用于基于III-V的红外光电成像。
机译:磁控溅射与TiO2和BFCO薄膜的脉冲激光沉积相结合
机译:WO3的结构,光学和电致色彩特性:RF磁控溅射技术制备的MOO3薄膜