机译:胺作为添加剂在氨基磺酸盐电解质中消除电沉积镍的残余应力
Korea Inst Ind Technol, 30 Gwahaksandan 1 Ro,60 Beon Gil, Busan 46742, South Korea;
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Nickel; Electrodeposition; Amine; Residual stress; Microhardness; Thick films;
机译:阴离子添加剂在氨基磺酸盐电解质电沉积镍钴合金中的作用
机译:无添加剂瓦特电解质电沉积镍的织构和微观结构演变
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机译:有机添加剂对磺胺酸盐电沉积的Ni和Ni合金残余应力的影响
机译:由无添加剂电解质电沉积的纳米晶镍的热稳定性。
机译:电解质和甘氨酸添加剂的pH值的影响电沉积锌铁涂层的形成与性能研究
机译:从氨基磺酸盐电解质中电沉积Ni第1部分:应力消除对退火行为和薄膜冶金的影响
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