机译:脉冲激光沉积生长的缺氧氧化镓膜中的相分离
INSP, UMR 7588 CNRS-Universite Paris VI, 4 Place Jussieu, 75252 Paris Cedex 5, France;
INSP, UMR 7588 CNRS-Universite Paris VI, 4 Place Jussieu, 75252 Paris Cedex 5, France;
INSP, UMR 7588 CNRS-Universite Paris VI, 4 Place Jussieu, 75252 Paris Cedex 5, France;
GREMI, UMR 7344 CNRS-Universite d'Orleans, 14 rue d'lssoudun, 45067 Orleans Cedex 2, France;
GREMI, UMR 7344 CNRS-Universite d'Orleans, 14 rue d'lssoudun, 45067 Orleans Cedex 2, France;
LCMC, Chimie-Paristech, UMR 7574 CNRS, 11 rue Pierre et Marie Curie, 75005 Paris, France;
LCMC, Chimie-Paristech, UMR 7574 CNRS, 11 rue Pierre et Marie Curie, 75005 Paris, France;
pulsed-laser deposition; gallium oxide; phase separation; oxygen deficiency;
机译:缺氧环境中脉冲激光沉积制备高k HfAlO_x薄膜的相分离和界面反应
机译:PLD生长的缺氧氧化镓膜的表征
机译:氮气和氧气退火对脉冲激光沉积生长铝 - 镓氧化膜性能的影响
机译:膜厚对有机发光二极管脉冲激光沉积生长铟锡氧化物薄膜性能的影响
机译:通过脉冲激光烧蚀生长的超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)薄膜的生长机理和电传输性质。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:通过飞秒脉冲激光沉积从五氧化钒(V2O5)生长的相变钒二氧化物(VO2)薄膜