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机译:使用193 nm干涉光刻技术控制二嵌段共聚物的分散以控制纳米粒子的沉积
Institut de Science des Matériaux de Mulhouse (IS2M), CNRS – LRC 7228, Université de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, 68057 Mulhouse, France;
Institut de Science des Matériaux de Mulhouse (IS2M), CNRS – LRC 7228, Université de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, 68057 Mulhouse, France;
Institut de Science des Matériaux de Mulhouse (IS2M), CNRS – LRC 7228, Université de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, 68057 Mulhouse, France;
Institut de Science des Matériaux de Mulhouse (IS2M), CNRS – LRC 7228, Université de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, 68057 Mulhouse, France;
Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, CNRS – UMR7504, Université de Strasbourg, 23 rue du Loess, 67200 Strasbourg, France;
Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, CNRS – UMR7504, Université de Strasbourg, 23 rue du Loess, 67200 Strasbourg, France;
Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, CNRS – UMR7504, Université de Strasbourg, 23 rue du Loess, 67200 Strasbourg, France;
Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, CNRS – UMR7504, Université de Strasbourg, 23 rue du Loess, 67200 Strasbourg, France;
Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, CNRS – UMR7504, Université de Strasbourg, 23 rue du Loess, 67200 Strasbourg, France;
Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, CNRS – UMR7504, Université de Strasbourg, 23 rue du Loess, 67200 Strasbourg, France;
Institut de Science des Matériaux de Mulhouse (IS2M), CNRS – LRC 7228, Université de Haute Alsace, 15 rue Jean Starcky, 68057 Mulhouse, France;
atomic force microscopy (AFM); block copolymers; nanoparticles; nanotechnology; self-assembly;
机译:使用193 nm干涉平版印刷术定向二嵌段共聚物的分解,以控制纳米颗粒的沉积
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:固态193 nm高空间相干激光器,用于40 nm以下的浸没式光刻
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:通过自然胶体光刻法生长尺寸和形状可控的定向外延铂纳米颗粒阵列
机译:193 nm浸没式干涉光刻中气泡散射效应的模拟