Le dépôt de zircone à l'intérieur de corps creux selon un procédé fonctionnant en lointaine post-décharge est étudié. La surface interne de substrats cylindriques est revêtue par un film mince de zircone monoclinique dès 573 K. Un modèle complet, nécessaire au contrôle du procédé, a été développé par résolution des équations de conservation. Ainsi, l'homogénéité en épaisseur des revêtements a été améliorée jusqu'à obtention de vitesses de dépôt pratiquement constantes le long du substrat.%Deposition of zirconia inside hollow substrates in remote Ar-O_2-H_2 post-discharges is considered. The inner surface of cylindrical substrates is coated by a thin film of monoclinic zirconia at 573 K and above. A complete modelling, required to control the process, is developed by solving the conservation equations of continuity, momentum and energy. By this means, the thickness homogeneity of the layers is improved and almost constant deposition rates are obtained along the substrate.
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