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机译:磨料过程中分子动力学模拟的材料去除和表面生成机理研究
The State Education Ministry key Laboratory of Advance Ceramics and Machining Technology Tianjin University, Tianjin, 300072, China;
nanometer grinding; indentation; molecular dynamics; simulation experiment; mechanism of material removal and surface generation;
机译:松散磨料振动辅助纳米冲击加工材料去除机制的分子动力学模拟研究
机译:物料去除过程中流体对表面生成的影响-分子动力学模拟
机译:使用分子动力学研究的Ni / Cu多层高速研磨过程中的地下损伤和材料去除机制
机译:磨料过程中分子动力学模拟材料去除与表面产生的研究
机译:从高级分子动力学模拟洞悉四面体材料的成核机理
机译:分子动力学模拟和和频产生振动光谱研究:蛙皮素2的表面方向
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机译:表面过程的分子动力学模拟:高温下二氧化硅表面的氧重组