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机译:面向磁性位图案介质的1 Tdot / in。〜2纳米压印光刻技术:机遇与挑战
Seagate Research Center, 1251 Waterfront Place, Pittsburgh, Pennsylvania 15222;
机译:使用电子束光刻技术对位图介质进行1 Teradot / in。〜2点图案化的挑战
机译:紫外纳米压印光刻技术和电沉积用于高密度图案化介质的磁性纳米点阵列的制备
机译:使用嵌段共聚物球形结构的硬掩模叠层硅模蚀刻,用于2.8Tbit / in。〜2的位图介质
机译:卷筒辊紫外线印刷和热纳米压印光刻的技术挑战与机遇
机译:带媒体噪声的位模式媒体和热辅助磁记录系统的信号处理
机译:全氟聚醚(PFPE)中间模具用于高分辨率热纳米压印光刻
机译:用UV纳米压印光刻和电沉积的高密度图案化介质制造磁纳米仪阵列