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机译:通过低氧注入剂量和加速能量的适当匹配来制造器件级绝缘体上硅材料
Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200050, China;
机译:注入氧材料在低剂量低能分离中Si-O键的红外光谱
机译:通过注入氧气材料进行低剂量低能分离时形成Si-SiO2界面
机译:植入式氧气材料分离过程中能量剂量窗的起源
机译:大电流氧气注入机中植入的高质量低剂量低能耗SIMOX
机译:超薄氧注入绝缘体上硅材料的微观结构和加工条件的相关性。
机译:面向低电压低能耗的超薄绝缘体上硅MOSFET低频噪声行为的经验和理论模型
机译:确定通过低能量(50keV,70keV或90keV)或高能量(200keV)注入的氧气形成的设备质量薄膜和标准Simox结构的最佳剂量
机译:用于全耗尽硅绝缘体的低剂量低能量sImOX