机译:偏温度应力分析超薄Ta扩散势垒的稳定性
Nanyang Technol Univ, Sch Mat Engn, Singapore 639798, Singapore;
INTERFACE-STATE GENERATION; AVALANCHE INJECTION; SILICON DIOXIDE; MOS STRUCTURES; SIO2; DEGRADATION; ELECTRONS; HYDROGEN; IMPACT;
机译:超薄聚对二甲苯封顶的电介质的偏置温度稳定性:表面氧对铜离子扩散的影响
机译:Cu / Ultrathin Ta / SiO_2 / Si互连结构的偏压温度应力分析
机译:n型和p型衬底在偏置温度应力下化学屏障对铜扩散的可靠性测试
机译:超薄RuC薄膜作为Cu扩散阻挡层的热稳定性
机译:离子束辅助沉积增强碳化硅颗粒扩散的阻挡层:对碳化硅(p /β)-铝化镍和碳化硅(p /γ)-铝化镍复合材料中相间稳定性的影响。
机译:通过超薄纳米多孔膜扩散的分子分离的实验与理论分析
机译:通过过滤的阴极真空弧沉积在晶体和氮硅基板上生长超薄非晶碳膜的热稳定性和扩散特性