机译:了解原子层沉积中非理想性实现的电子缺陷抑制机制
Materials Science and Engineering University of California San Diego La Jolla California 92093 United States;
Advanced Light Source (ALS) E. O. Lawrence Berkeley Laboratory Berkeley California United States;
Materials Science and Engineering Stanford University Stanford California 94305 United States;
Irvine Materials Research Institute University of California Irvine Irvine California United States;
California Institute for Telecommunications and Information Technology University of California San Diego La Jolla California 92093 United States;
机译:锆原子层沉积使得纳米层封装Li金属的原位突发研究
机译:了解原子层沉积过程中多层系统的增长机制
机译:通过以O_2等离子体或H_2O为氧源的原子层沉积来了解RuO_2上TiO_2层生长过程中的界面反应机理
机译:原子层沉积/分子层沉积基阻挡涂层缺陷检测
机译:了解金属硫属元素化物原子层沉积过程中的反应机理并控制反应性表面物种。
机译:单层氧化钛的原子层沉积石墨烯:关于了解成核和原子化的原子尺度研究成长性
机译:理解原子层沉积中的非缺陷抑制机制