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机译:理解原子层沉积中的非缺陷抑制机制
Mahmut Sami Kavrik; Aaron Bostwick; Eli Rotenberg; Kechao Tang; Emily Thomson; Toshihiro Aoki; Bernd Fruhberger; Yuan Taur; Paul C. McIntyre; Andrew C. Kummel;
机译:了解原子层沉积中非理想性实现的电子缺陷抑制机制
机译:锆原子层沉积使得纳米层封装Li金属的原位突发研究
机译:了解原子层沉积过程中多层系统的增长机制
机译:原子层沉积/分子层沉积基阻挡涂层缺陷检测
机译:了解金属硫属元素化物原子层沉积过程中的反应机理并控制反应性表面物种。
机译:单层氧化钛的原子层沉积石墨烯:关于了解成核和原子化的原子尺度研究成长性
机译:通过在原子层沉积期间通过受控分离和递送化学物质来实现低缺陷处理的系统和方法
机译:能够在衬底上移动多个第二原子层和在衬底上移动多个第一原子层的原子层沉积设备,以及使用该方法的原子层沉积方法
机译:原子层沉积设备,使用原子层沉积设备的成膜方法以及原子层沉积设备的清洁方法
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