ブロックコポリマーの配向自己組織化によるナノパターニング: シングルナノパターニングを目指して

摘要

半導体LSIなどの電子デバイスの高性能化を図るためには、パターンの高密度化は必要不可欠である。また、ハードデイスクをはじめとする各種記憶媒体においても、データ容量の飛躍的な増加に対応するために、より高密度化が要求されている。