机译:溅射沉积的二氧化铈和二氧化钛涂层的形貌,结构和电化学分析
Laboratoire d'Electrochimie et de Chimie Analytique, UMR 7575 CNRS, F.NSCP, 11 rue Pierre et Marie Curie, 75231 Paris Cedex 05, France;
CeO_2; TiO_2; Coatings; Reactive magnetron sputtering; MCFC;
机译:用于电化学的二氧化铈和铜/二氧化铈功能涂料:材料制备和表征
机译:二氧化钛杂交簇对电化学应用的计算研究
机译:在较高温度下通过化学气相沉积(CVD)工艺在N-2气流速率下制备的TiCN涂层形态学,微观结构,电化学和纳米力学特性分析
机译:用电化学方法研究非均相催化剂:二氧化铈和二氧化钛负载的铱纳米粒子用于乙烯氧化
机译:溅射沉积的SS304 + x铝(x = 0、4、7和10 wt。%)涂层以及机械研磨的钛,锆和and粉的结构特征。
机译:磁控溅射二氧化钛和掺杂二氧化钛涂层的结构形成和光催化活性
机译:磁控溅射二氧化钛和掺杂二氧化钛涂层的结构形成和光催化活性