机译:催化剂Hf溶胶-凝胶法制备纳米多孔F掺杂SiO_2低k薄膜的电学性能
Department of Physics, Lanzhou University, Lanzhou 730000, P. R. China;
nanoporous SiO_2; low-k; electrical properties; sol-gel;
机译:催化剂Hf溶胶-凝胶法制备纳米多孔SiO_2低k薄膜的结构特性和热稳定性
机译:退火对Hf催化剂溶胶-凝胶法制备低k纳米多孔SiO_2薄膜性能的影响
机译:HF催化剂对溶胶凝胶法制备超低k薄膜的微观结构性能的影响
机译:溶胶-凝胶法制备HF催化剂的纳米多孔SiO_2薄膜的特性
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:热退火对溶胶-凝胶法制备的Al-Ni共掺杂ZnO薄膜结构,电学和光学性能的影响
机译:溶胶 - 凝胶法制备锆酸铅 - 钛酸铅薄膜的微观结构发展及电学性能。 (重新公布新的可用性信息)。