Independent, Richardson, TX 75081, USA;
Raith GmbH, Konrad-Adenauer-Allee 8, Phoenix West, 44263 Dortmund, Germany;
机译:使用硅化物直接写入电子束光刻工艺制造用于DUV和EUV光刻的掩模
机译:双光束显微镜进行大面积直写聚焦离子束光刻
机译:使用离子束光刻技术对金刚石表面进行直接写入,离子注入掩膜图案化的分辨率,掩膜能力和通量
机译:直接写入电子束光刻与光学光刻自动对准,用于器件制造
机译:直接写入无掩模光刻系统的无损压缩算法的体系结构和硬件设计。
机译:LBL纳米复合薄膜的直接写入无掩模光刻及其对MEMS技术的前景
机译:电子束无损布局图像压缩算法 直写光刻
机译:直写无掩模光刻系统无损压缩算法的体系结构和硬件设计