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机译:使用基于模型的库匹配技术在临界尺寸扫描电子显微镜中精确测量非常小的线条图案
Hitachi Ltd. Production Engineering Research Laboratory 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku Yokohama, Kanagawa 244-0817, Japan;
Hitachi Ltd. Production Engineering Research Laboratory 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku Yokohama, Kanagawa 244-0817, Japan;
Hitachi Ltd. Production Engineering Research Laboratory 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku Yokohama, Kanagawa 244-0817, Japan;
critical dimension scanning electron microscopy; critical dimension bias; model-based library; reference metrology; monte carlo simulation; atomic force microscopy;
机译:使用基于模型的库匹配技术在临界尺寸扫描电子显微镜中精确测量非常小的线条图案
机译:扫描电子显微镜中的三维形态计量学:一种使用立体对数字化图像和数字图像分析对微观结构进行精确尺寸和角度测量的技术。
机译:改进的二次电子提取效率模型,用于基于模型的库匹配来精确测量窄空间图案
机译:改进的二次电子提取效率模型,可使用基于模型的库匹配来精确测量窄空间图案
机译:临界尺寸低真空扫描电子显微镜的进展。
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机译:扫描探针显微镜的ORN1讲座,第2部分:力尺寸:通过开尔文探头力显微镜的电子和离子传输测量