...
机译:基于拉普拉斯特征图和贝叶斯聚类的布局模式采样及其在热点检测和光学邻近校正中的应用
Toshiba Corporation, Yokohama 247-8585, Japan;
The Chinese University of Hong Kong, Computer Science and Engineering Department, NT, Hong Kong;
The University of Texas at Austin, Electrical and Computer Engineering Department, Austin, Texas 78712, United States;
lithography; pattern sampling; clustering; optical proximity correction; hotspot detection;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:PV感知模拟尺寸为具有光学邻近校正的鲁棒模拟布局retargeting
机译:基于拉普拉斯特征图和贝叶斯聚类的布局模式采样及其在热点检测和OPC中的应用
机译:通过光学邻近校正来补偿极紫外光刻图像场边缘效应。
机译:使用预期的告别存在调查问卷(AFEQT)的对抗与死亡的分歧模式:四个样品的横截面比较研究随着死亡的越来越近
机译:反向光刻作为DFm工具:利用基于模型的辅助特征放置,快速光学邻近校正和光刻热点检测加速设计规则开发
机译:热点模式:建筑气味的形式定义和自动检测。