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New high-tin phase found in electrolytic Sn–Ni deposits

机译:电解锡镍镀层中发现新的高锡相

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摘要

Using X-ray diffraction technique and transmission electron microscopy it has been demonstrated that multiphase Sn–Ni electrodeposits with 3–34 at.% Ni contain a new phase of composition close to NiSn9. Its lattice parameters are specified as follows: a 0 = 1.2621(7), b 0 = 0.5231(4), c 0 = 0.6213(4) (in nm), β = 105.8(7)° of the C 2/m space group. This new phase decomposes at 100°C into β tin and Ni3Sn4.
机译:使用X射线衍射技术和透射电子显微镜已证明,具有3–34 at。%Ni的多相Sn–Ni电沉积物包含接近NiSn9 的新相。其晶格参数指定如下:a 0 = 1.2621(7),b 0 = 0.5231(4),c 0 = 0.6213(4)(nm),β= C 2 / m空间组的105.8(7)°。该新相在100°C分解为β锡和Ni3 Sn4

著录项

  • 来源
    《Journal of Materials Science 》 |2001年第19期| 4633-4636| 共4页
  • 作者单位

    Institute of Metallurgy and Materials Science Polish Academy of Sciences;

    Institute of Precision Mechanics;

    Institute of Metallurgy and Materials Science Polish Academy of Sciences;

    Faculty of Chemistry Jagiellonian University;

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  • 正文语种 eng
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