机译:Ⅲ-Ⅴ族衬底对化学浴沉积CdS薄膜的织构,结构和光学性能的影响
Instituto de Investigación e Innovación en Energías Renovables Universidad de Ciencias y Artes de Chiapas Libramiento Norte # 1150 Lajas Maciel Cp. 29039 Tuxtla Gutiérrez Chiapas Mexico;
CONACYT - Instituto de Investigación e Innovación en Energías Renovables Universidad de Ciencias y Artes de Chiapas Libramiento Norte # 1150 Lajas Maciel Cp. 29039 Tuxtla Gutiérrez Chiapas Mexico;
Instituto de Investigación e Innovación en Energías Renovables Universidad de Ciencias y Artes de Chiapas Libramiento Norte # 1150 Lajas Maciel Cp. 29039 Tuxtla Gutiérrez Chiapas Mexico Departamento de Ingeniería Eléctrica Sección de Electrónica del Estado Sólido CINVESTAV-IPN Av. Instituto Politecnico Nacional 2508 Col. San Pedro Zacatenco Mexico Cp. 07360 Mexico;
CONACYT - Departamento de Ingenieria Eléctrica Sección de Electrónica del Estado Sólido CINVESTAV-IPN Av. Instituto Politécnico Nacional 2508 Col. San Pedro Zacatenco Mexico Cp. 07360 Mexico;
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机译:沉积温度对化学浴沉积CdSe纳米晶薄膜结构,光学性能和构型的影响
机译:镀液温度,沉积时间和S / Cd比对化学镀液制备的CdS薄膜结构,表面形貌,化学组成和光学性能的影响
机译:膜厚和化学计量比对不同浴温下化学浴沉积法制备的CdS量子点薄膜的电,光和光探测器性能的影响
机译:浴pH依赖化学浴沉积CDS薄膜的结构和光学性质
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:退火温度对化学浴镀(CBD)技术在低溶液浓度下沉积的CdS薄膜光学光谱的影响
机译:镀液温度,沉积时间和S / Cd比对化学镀液制备的CdS薄膜结构,表面形貌,化学组成和光学性能的影响