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机译:激光物理气相沉积法沉积MoS_2膜中的导电性质
North Carolina State Univ, Dept Mat Sci & Engn, Raleigh, NC 27695 USA;
机译:通过激光物理气相沉积法在MoS_2膜上形成低电阻金属触点
机译:用二甲基二甲氧基硅烷/ O-2前体使用等离子体增强的化学气相沉积,纳米孔结构的低介电常数SiOC(-H)薄膜的导电。
机译:化学气相沉积沉积10-20 Nm厚的多晶氧化锡薄膜中的导电
机译:射频溅射通过物理气相沉积处理Cu(In,Ga)Se2薄膜太阳能电池的ZnO,ZnO:Al薄膜的沉积和表征
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:脉冲激光沉积沉积的Nb掺杂SrsnO3外延膜的电气和光学性能
机译:用原子层化学气相沉积沉积超薄Si的HF硅酸盐膜和HF硅酸盐/ SiO2双层的物理和电气特性
机译:离子辅助沉积和物理气相沉积Cr膜的横截面TEm(透射电子显微镜)研究