机译:使用移动有限厚度基座的连续化学气相沉积工艺
机译:SiC / SiC复合材料相间连续化学气相沉积工艺均匀化氮化硼涂层的厚度
机译:通过露天激光诱导化学气相沉积法在移动的基材上连续沉积碳纳米管
机译:温度仿真与金刚石沉积行为,丝状化学气相沉积期间长丝与基座之间的距离
机译:CVD加工中不断移动有限厚度基座
机译:氮化铝镓/氮化镓金属有机化学气相沉积工艺中的实时原位化学传感,可进行高级过程控制。
机译:金属有机化学气相沉积(MOCVD)异质外延Pr0.7Ca0.3MnO3薄膜的合成:工艺条件对结构/形态和功能特性的影响
机译:通过连续化学气相沉积工艺进行氮化硼涂层厚度的均匀化SiC / SiC复合材料的间相互作用
机译:用于生产异质结构材料的双基座OmCVD(有机金属化学气相沉积)