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机译:在773 K下在MOSi2涂层上形成的氧化皮的生长行为和微观结构
Korea Univ, Div Mat & Engn, Seoul 136701, South Korea;
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; LOW-TEMPERATURE OXIDATION; MO SUBSTRATE; AMMONIA NITRIDATION; SI; MOLYBDENUM; PEST; DIFFUSION; KINETICS; MECHANISM;
机译:Mo衬底上形成的MoSi2 / Si3N4纳米复合涂层在773 K下的低温循环氧化行为
机译:通过电沉积制备的MOSI2 / RESI2 / NBSI2化合物涂层的800℃和1250摄氏度的微观结构和氧化行为,然后用粘合
机译:莫来石对1500℃热喷涂MOSI2涂层微观结构和氧化行为的影响
机译:MoSi2上形成的SiO2鳞片的微观结构和生长
机译:基于β-镍铝化物的溅射沉积表面涂层的微观结构和氧化行为
机译:激光熔覆在Ti6Al4V上制备的Ni-Ti-Si涂层的组织耐磨性和氧化行为
机译:siC涂层C / C复合材料siC-mosi2多相涂层的组织与抗氧化性能
机译:铂添加量和硫杂质对sinlge相CVD铝化物粘结涂层组织和结垢性能的影响