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机译:TiNi形状记忆合金薄膜的定量相变行为
Case Western Reserve Univ, Dept Mat Sci & Engn, Cleveland, OH 44106 USA;
X-RAY-DIFFRACTION; R-PHASE; NEUTRON-DIFFRACTION; MARTENSITIC-TRANSFORMATION; RIETVELD METHOD; PERCENT-NI; TEMPERATURE; EVOLUTION; SILICON; TEXTURE;
机译:不同沉积条件下TINI形状记忆合金薄膜的晶粒尺寸和相变行为
机译:质子辐照对TiNi形状记忆合金薄膜相变行为的影响
机译:关于导致多层(TiNi)/(W)形状记忆合金薄膜中B2-R相变热滞后消失的机理
机译:形状记忆合金薄膜相变的数值模拟
机译:Heusler型单晶铁磁形状记忆薄膜的分子束外延生长和相变行为。
机译:不同沉积条件下TINI形状记忆合金薄膜的晶粒尺寸和相变行为
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