...
首页> 外文期刊>Journal of Materials Research >The Influence of porosity on whisker growth in electroplated tin films
【24h】

The Influence of porosity on whisker growth in electroplated tin films

机译:孔隙率对电镀锡膜晶须生长的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Tin whisker growth has been observed since the 1950s and has become of more interest in the past 15 to 20 years due to the desire to use lead-free solders, pure tin being a good lead-free candidate. In the same time period, failure of satellites and other devices using pure tin solders has been blamed on tin whisker growth. The accepted driving force for whisker growth is compressive stresses in films. This article reports a microstructure-control method of limiting whisker growth through the introduction of pores that permit an alternate means of stress relief.
机译:自从1950年代以来,锡晶须的生长就得到了观察,由于希望使用无铅焊料,在过去的15到20年中,锡晶须的生长引起了人们的极大兴趣,纯锡是一种很好的无铅焊料。在同一时期,卫星和其他使用纯锡焊料的设备的故障被归咎于锡晶须的增长。晶须生长的公认驱动力是薄膜中的压应力。本文报道了一种微结构控制方法,该方法通过引入孔来限制晶须生长,该孔允许使用另一种缓解应力的方法。

著录项

  • 来源
    《Journal of Materials Research》 |2006年第12期|p.2971-2974|共4页
  • 作者

    J.P. Winterstein; M.G. Norton;

  • 作者单位

    School of Mechanical and Materials Engineering, Washington State University, Pullman, Washington 99164;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 工程材料学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号