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机译:WN_xC_y的低温等离子体增强原子层沉积生长,由新型前驱物用于纳米级器件中的阻挡层
College of Nanoscale Science and Engineering, University at Albany, the State University of New York, Albany, New York 12203;
机译:从官能化烷基前体的低温等离子体增强原子层沉积锡(IV)氧化物:基于SnO2的薄膜晶体管器件的制造和评估
机译:等离子增强原子层沉积生长Ru-WCN混合相膜的开发,用于纳米级扩散阻挡层和铜直接板应用
机译:通过低温等离子体增强原子层沉积二氧化硅的介电阻挡层
机译:使用新的Ta前体和H_2等离子体增强TAC_X膜的等离子体增强原子层沉积;用于NMOS的Cu金属化和金属栅极扩散屏障的应用
机译:用于直接板衬和铜扩散阻挡层应用的钌-氮化钛混合相层的等离子体增强原子层沉积。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:从前体化学到气体传感器:来自氧化锌层的等离子体增强的原子层沉积工艺,用于阻气和传感器应用的非渗透锌前体
机译:前驱体的研究及其在电致发光器件211薄膜原子层外延生长中的应用