榦端紫外線リソグラフィの最前線——2: 榦端紫外光の発生（レーザ方式）

摘要

極端紫外（Extreme Ultra Violet:EUV）リソグラフィrnを実現するための最重要課題の一つは，波長13.5nmのrnEUV光源の開発である。我が国では，経済産業省下のrn技術研究組合極端紫外線露光システム技術開発機構（略rn称：EUVA）と文部科学省リーディング・プロジェクトrn（以下LP）によりEUV光源開発研究が行われてきた。