机译:撞击式CVD化学反应器中混合空气对流的数值研究。
Department of Mechanical and Industrial Engineering, University of Illinois at Urbana-Champaign, 1206 West Green Street, Urbana, IL 61801;
机译:大气压撞击式喷射CVD反应器中对薄膜生长和均匀性的参数影响
机译:O_2,N_2流量和沉积时间对通过大气压化学气相沉积(APCVD)沉积的SnO_2薄膜的结构,电学和光学性质的依赖性
机译:大面积大气压滞流GVD反应器中的流体流动和传输过程,用于沉积薄膜
机译:大面积常压CVD反应器中的混合对流
机译:大气压下无限制圆形撞击式射流反应器中的化学气相沉积建模。
机译:直流和射频等离子体射流的大气压等离子体沉积有机硅薄膜
机译:大气压等离子体化学气相沉积的非晶硅薄膜的高速率沉积。 (第一个报告)。具有旋转电极的大气压等离子体CVD装置的设计与生产。
机译:高效薄膜光伏器件的常压化学气相沉积和CdTe的气相沉积