机译:用于在蓝宝石上MOCVD生长GaN的新型缓冲层
Microelectronics Laboratory, University of Illinois, Urbana, IL 61801;
AlN buffer layer; double buffer layer; GaN, GaN buffer layer; metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD); sapphire substrates;
机译:使用GaN,AlGaN和AlN缓冲层在r面蓝宝石衬底上进行a面GaN膜的MOCVD生长的比较研究
机译:缓冲层退火对MOCVD在蓝宝石衬底上GaN生长的影响
机译:缓冲层退火对MOCVD的蓝宝石底板GaN生长的影响
机译:A1N缓冲层生长温度对MOCVD在R面蓝宝石中生长的平面甘蓝
机译:氮化镓/蓝宝石界面和蓝宝石衬底上缓冲层的TEM表征通过MOCVD。
机译:使用双AlN缓冲层在m面蓝宝石上生长的半极性(11-22)GaN的各向异性结构和光学性质
机译:通过MOCVD表征蓝宝石衬底上生长的AlN缓冲层和厚GaN层