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机译:利用光谱原位反射率优化GaN MOVPE在图案化Si衬底上的生长
Technische Universitaet Berlin, Inslitut fuer Festkoerperphysik, Hardenbergstr. 36, 10623 Berlin, Germany;
A1. Growth models; A1. Optical microscopy; A1. Surface structure; A3. Metalorganic chemical vapor deposition; B1.Nitrides; B2. Semiconducting Ⅲ-Ⅴ materials;
机译:蓝宝石衬底上GaN的MOVPE过程中原位反射时间的模拟
机译:选择性Movpe在图案化(110)si衬底上生长非极性(1120)gan
机译:使用化学剥离和室温直接晶片键合以及GaN晶片规模在ZnO缓冲蓝宝石上进行GaN晶片规模的MOVPE生长,从蓝宝石转移到玻璃基板的MOVPE GaN薄膜的结构和成分表征
机译:原位光谱椭圆形测量测量监测GaN成核层生长和Movpe中的退火行为
机译:甲烷单胞菌L3(甲烷营养,碳代谢,动态行为,生长模型,混合基质培养物)的生长动力学和碳基质氧化和掺入模式
机译:通过基于H3PO4的蚀刻剂修饰微米尺寸的图案化蓝宝石衬底抑制侧壁GaN的初始生长
机译:Movpe反应器中蓝宝石衬底上GaN牺牲层的原位制备用于过度分离GaN晶体
机译:通过mOVpE生长期间的垂直入射反射率测量原位生长速率