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机译:GaAs(711)A的形态不稳定性:(100)和(511)台阶之间的过渡
Department of Physics, University of Arkansas, Fayetteville, AR 72701, USA;
A1. Reflection high-energy electron diffraction; A1. Surface structure; A3. Molecular beam epitaxy;
机译:通过光反射光谱法和高分辨率x-射线研究了在(100),(511),(411),(311)和(111)GaAs衬底上生长的应变(In,Ga)(As,N)薄膜中的氮掺入射线衍射
机译:在准平衡条件下制备的GaAs(001)衬底的阶梯形结构
机译:在标准Si(511)和兼容SOI(511)上生长的GaAs的比较
机译:GaAs(001)阶梯形形态形成的表征
机译:在InAs(100)和GaAs(100)表面上高k金属氧化物原子层沉积过程中的表面化学和界面演化。
机译:界面键对GaAs(311)B和(100)衬底上生长的InAs QD形态的影响
机译:通过光反射光谱法和高分辨率x-射线研究了在(100),(511),(411),(311)和(111)GaAs衬底上生长的应变(In,Ga)(As,N)薄膜中的氮掺入射线衍射
机译:I型超晶格的电子结构:alas / Gaas(100),Ge / Gaas(100)