机译:溅射功率对r.f.沉积的ZnO:Ga薄膜性能的影响低温磁控溅射
Shandong Univ, Sch Phys & Microelect, Jinan 250100, Peoples R China;
magnetron sputtering; ZnO : Ga films; electrical and optical properties; OXIDE THIN-FILMS; TRANSPARENT; ZINC; GALLIUM; DEPENDENCE; PRESSURE; GROWTH; LAYERS;
机译:通过脉冲直流磁控溅射以不同的溅射功率和衬底温度沉积的Ga掺杂ZnO薄膜及其性能改善潜力
机译:气压和r.f.的影响对磁控溅射沉积非晶碳薄膜的生长和性能的影响
机译:用射频荧光法制备ZnO:Ga薄膜及其性能研究。低温磁控溅射
机译:第29章用R.F沉积的Al,V和Nb的ZnO薄膜的结构,光学和电性能。磁控溅射
机译:研究在低温下电化学沉积的类金刚石碳膜的结构和性能。
机译:低温下大功率脉冲磁控溅射在铀上沉积的TiN膜
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)