机译:膜厚对铜金属化过程中原子层沉积的超薄HfO_2和Al_2O_3扩散势垒击穿温度的影响
Department of Chemical Engineering, University of Illinois at Chicago, Chicago, IL 60607, USA;
A1. Diffusion; A1. Nanostructures; A1. X-ray diffraction;
机译:原子层沉积的超薄HfO_2和A1_2O_3薄膜作为铜互连中的扩散阻挡层
机译:通过低温等离子体增强原子层沉积法制备的高渗透性Al_2O_3 / HfO_2防潮膜
机译:低温下远程等离子体原子层沉积沉积的Al_2O_3薄膜的湿气阻隔性能
机译:原子层沉积超薄HfO_2薄膜作为铜金属化扩散阻挡层的表征
机译:铜金属化和原子层沉积的高κ膜扩散阻挡层的基础研究
机译:逐层原位原子层退火法制备AlN超薄膜的低温原子层外延
机译:低电阻率和超薄锰氮化物膜的等离子体增强的原子层沉积具有优异的铜扩散性