机译:基于GalnAsP / InP的盖革模式雪崩光电二极管的生长和表征
Lincoln Laboratory, Massachusetts Institute of Technology, 244 Wood St., Lexington, MA 02420-9108, USA;
A3. Organometallic vapor phase epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Infrared devices;
机译:基于质子辐照的基于InP的盖革模式雪崩光电二极管的降解
机译:基于质子辐照的基于InP的盖革模式雪崩光电二极管的降解
机译:用于表征Geiger模式雪崩光电二极管技术以进行粒子跟踪的测试光束设置
机译:CMOS Geiger-Mode Avalanche Photoode探测器的时间和CMOS Geiger-Mode雪崩光电二极管探测器
机译:新型器件架构表征硅盖革模式雪崩光电二极管
机译:在工作速度超过10 Gbps的导电基板上制造平面型顶部照明的基于InP的雪崩光电探测器并进行表征
机译:基于Inp的盖革模式雪崩光电二极管阵列,用于1.06μm的三维成像