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机译:线性渐变二元金属合金栅极纳米级圆柱MOSFET的分析建模和仿真,以减少短沟道效应
Department of Electronics and Telecommunication Engineering, Jadavpur University, Kolkata 700 032, India;
Department of Electronics and Telecommunication Engineering, Jadavpur University, Kolkata 700 032, India;
Department of Electronics and Telecommunication Engineering, Jadavpur University, Kolkata 700 032, India;
Cylindrical gate; Work function engineering; Binary metal alloy gate; Short channel effect; Threshold voltage roll-off; Drain induced barrier lowering (DIBL);
机译:用于改善短沟道性能的纳米级线性梯度二元金属合金栅极圆柱形无结MOSFET的全面二维分析研究
机译:新型线性渐变二元金属合金四栅极MOSFET的紧凑准3D门限电压建模和性能分析
机译:线性梯度二元金属合金栅电极用于短通道SOI MOSFET的功函数工程
机译:分析建模与分三级金属前门叠层DG-MOSFET的模拟(GC-TMDG MOSFET)
机译:双栅极MOSFET中短沟道效应的分析模型。
机译:通过广义线性混合模型对二元结果进行元分析:模拟研究
机译:硅锗(SiGe)衬底上带有应变硅(s-Si)沟道的短沟道双材料栅极(DMG)MOSFET阈值电压的分析模型
机译:用于VLsI的短沟道mOsFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)的建模。