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机译:AlGaN / GaN MOSHEMT中与氧化物有关的2DEG薄层电荷密度的建模和仿真
Natl Inst Technol, Dept Elect & Commun Engn, Microelect & VLSI Design Grp, Silchar 788010, Assam, India;
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2DEG; AlGaN/GaN; Eigenenergy; MOSHEMT; TCAD;
机译:在AlGaN / GaN MOSHEMT中基于氧化物的2DEG薄板电荷密度和阈值电压建模
机译:AlInN / AlN / GaN MOSHEMT的基于2DEG薄板电荷密度和直流特性的物理数学模型
机译:考虑AlInN / GaN MOSHEMT接口DOS的2DEG薄板电荷密度和阈值电压分析的模型开发
机译:在AlGaN / GaN晶体管中的表面供体陷阱密度的变化
机译:Algan / Gan MoShemts诱捕效应研究
机译:氧等离子体处理对采用PECVD SiO2栅极绝缘体的原位SiN / AlGaN / GaN MOSHEMT的影响
机译:用于掺杂和未掺杂门控AlGaN / GaN Hemts的三角量子井模型中的电荷密度和等离子体模式