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摘要

本報は,効率的で長続きする疎氷性塗膜を簡単に作る方法に関するものである。疎氷性塗膜を作るのに最近存在感を増しつつあるのは,液体の潤滑剤を含む表面エネルギーの小さな滑りやすい塗膜を作る方法である。表面活性の低いフッ素基部分と反応性のあるヒドロシラン基(Si-H)をもつシルセスキオキサン(F-POSS-SiH)を,ポリメチルヒドロシロキサン(PMHS)とポリメチルビニルシロキサン(PMVS)とのハイドロシリル化反応による架橋造膜工程に共存させることにより製造できる塗膜は,シロキサン保護塗膜の定番であるSylgard 184の5%に相当する3.8kPa程度の低い力で氷が剥がせる。F-POSS-SiHはPOSSとフッ素基をもったメタクリレートとの反応で作る。この化合物をPMHSとPMVSに混合して塗布し1時間常温で乾燥した後lOO℃で3時間加熱する。乾燥工程では,まず最初にF-POSS-SiHが表面層に析出し,内部にいくほどシリコーン成分の多い傾斜構造となり,さらに表面と内部の収縮率の違いにより表面は波打った状態になる。この波打った構造は,未反応の低分子PMHSに居場所を提供することになり,結果的に液体潤滑剤が存在する状態になると考えられる。15回氷着と溶解を繰り返しても40kPaを超えない。
机译:本文涉及一种用于制造高效且持久的憎冰涂层的简单方法。近来,在制造防冰涂层中越来越多地使用的方法是制造包含液体润滑剂且表面能较小的光滑涂层的方法。具有与低表面活性的氟基团反应的氢硅烷基团(Si-H)的倍半硅氧烷(F-POSS-SiH)被用作聚甲基氢硅氧烷(PMHS)和聚甲基乙烯基硅氧烷(PMVS)。可以通过1的氢化硅烷化反应在交联膜形成过程中共存的涂膜可以约3.8 kPa的低力除去冰,相当于标准硅氧烷保护涂膜Sylgard 184的5%。 F-POSS-SiH是通过POSS与氟化甲基丙烯酸酯反应制得的。将该化合物与PMHS和PMVS混合,施涂,在室温下干燥1小时,然后在100°C加热3小时。在干燥过程中,首先将F-POSS-SiH沉积在表面层上,形成具有更多向内部的有机硅组分的渐变结构,并且由于表面和内部之间的收缩差异而使表面起伏。据认为,这种波浪状结构为未反应的低分子量PMHS提供了场所,导致存在液体润滑剂。即使反复结冰和融化15次,也不会超过40 kPa。

著录项

  • 来源
    《色材協会誌》 |2017年第5期|35-35|共1页
  • 作者

    中山雍晴;

  • 作者单位
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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