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Electric Field Excitation of Electrons From Shallow Traps in CdSe Thin‐Film Triodes

机译:CdSe薄膜三极管中浅陷阱中电子的电场激励

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摘要

An investigation of the electrical properties of CdSe thin‐film triodes has demonstrated the existence of shallow trapping levels distributed from 0.02 to 0.06 eV below the edge of the conduction band. These values have been experimentally determined by a combination of optical and field effect techniques. The investigation also indicates that field excitation of electrons from such levels is a fundamental mechanism of operation in the thin‐film field‐effect triode. Close correlation has been obtained between the dependence of device current on applied gate potential and the probability of field excitation of carriers with the field strengths achieved with these values of potential.
机译:对CdSe薄膜三极管的电学性能的研究表明,存在浅陷获能级,其分布在导带边缘以下0.02至0.06 eV之间。这些值已通过光学和场效应技术的组合实验确定。研究还表明,从这种能级激发电子是薄膜场效应三极管工作的基本机制。在器件电流对所施加的栅极电势的依赖性与利用这些电势值实现的场强的载流子的场激励概率之间已经获得了紧密的相关性。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1964年第8期|共4页
  • 作者

    Poehler T. O.; Abraham David;

  • 作者单位

    The Johns Hopkins University, Applied Physics Laboratory, Silver Spring, Maryland;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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